样品前处理

离子柱系列

IC-C18

HPSW IC 离子柱利用样品中干扰组分与前处理柱中的固定相之间的结合力使基体中的干扰组分保留在样品前处理柱上，而被测物则不被保留，从而进行后续的分析测定，这种方法也可达到被测物富集和样品基体去除的目的。

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离子柱系列

IC-Ag/Na

HPSW IC 离子柱利用样品中干扰组分与前处理柱中的固定相之间的结合力使基体中的干扰组分保留在样品前处理柱上，而被测物则不被保留，从而进行后续的分析测定，这种方法也可达到被测物富集和样品基体去除的目的。

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离子柱系列

IC-Ba

HPSW IC 离子柱利用样品中干扰组分与前处理柱中的固定相之间的结合力使基体中的干扰组分保留在样品前处理柱上，而被测物则不被保留，从而进行后续的分析测定，这种方法也可达到被测物富集和样品基体去除的目的。

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离子柱系列

IC-H

HPSW IC 离子柱利用样品中干扰组分与前处理柱中的固定相之间的结合力使基体中的干扰组分保留在样品前处理柱上，而被测物则不被保留，从而进行后续的分析测定，这种方法也可达到被测物富集和样品基体去除的目的。

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离子柱系列

IC-Ag

HPSW IC 离子柱利用样品中干扰组分与前处理柱中的固定相之间的结合力使基体中的干扰组分保留在样品前处理柱上，而被测物则不被保留，从而进行后续的分析测定，这种方法也可达到被测物富集和样品基体去除的目的。

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离子柱系列

IC-Na

HPSW IC 离子柱利用样品中干扰组分与前处理柱中的固定相之间的结合力使基体中的干扰组分保留在样品前处理柱上，而被测物则不被保留，从而进行后续的分析测定，这种方法也可达到被测物富集和样品基体去除的目的。

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离子柱系列

IC-RP

HPSW IC 离子柱利用样品中干扰组分与前处理柱中的固定相之间的结合力使基体中的干扰组分保留在样品前处理柱上，而被测物则不被保留，从而进行后续的分析测定，这种方法也可达到被测物富集和样品基体去除的目的。

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聚合物基质 SPE

WAX

WAX是以大孔PS/DVB为基质，经三级胺基修饰的混合型弱阴离子交换吸附剂，其苯环具有较强的疏水相互作用，三级胺基提供了弱阴离子交换能力。

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聚合物基质 SPE

MAX

MAX 是基于单分散聚合物微球的混合型强阴离子交换SPE柱，具有强阴离子交换和反相保留作用，适合酸性化合物的萃取。

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聚合物基质 SPE

WCX

WCX 是基于单分散聚合物微球的混合型弱阳离子交换SPE柱，其苯环具有较强的疏水相互作用，羧基提供了弱阳离子交换能力。

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聚合物基质 SPE

MCX

MCX 是基于单分散聚合物微球的混合型强阳离子交换SPE柱。它具有良好的水可浸润性和化学稳定性，它对碱性化合物有很好的保留。

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亲水改性基质

HLB

HLB亲水亲脂平衡填料由特殊的共聚合技术制备而成，含有特定比例的亲水基和疏水基：疏水性的二乙烯基苯结构保留非极性化合物，亲水性的N-乙烯基吡咯烷酮结构保留极性化合物。该填料具有良好的水润湿性，可通过水相调节亲水-亲脂平衡，从而获得理想的选择性。

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